EUV光刻的两大挑战者,谁扛大旗?
光(guang)刻是半(ban)导体行业的(de)核心(xin)技术(shu)。自(zi)仙童半(ban)导体公司的(de)罗伯特诺伊斯在1960年发(fa)明单片集成(cheng)电路(lu)以来,光(guang)刻技术(shu)一直(zhi)是主要的(de)光(guang)刻技术(shu)。本质上,阴(yin)影(ying)掩模(shadow mask)用来协助一种称为光(guang)刻胶的(de)光(guang)敏材料进(jin)行图案化,从而能够进(jin)行图案化沉(chen)积和(he)蚀刻工(gong)艺(yi)(yi)。而光(guang)刻工(gong)艺(yi)(yi)的(de)最终(zhong)解(jie)决(jue)(jue)方案是由所(suo)用光(guang)源的(de)波(bo)长决(jue)(jue)定的(de)。在开(kai)发(fa)更...